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石英坩堝：

  電弧石英坩堝采用進(jìn)口高純石英粉作原料，利用離心作用在真空狀態(tài)下熔制，產(chǎn)品采用國(guó)際上^先進(jìn)的四步法清洗，在萬(wàn)級(jí)凈化間烘干并采用真空包裝方法保證產(chǎn)品的潔凈度。

產(chǎn)品用途：

  電弧石英坩堝適用于拉制單晶硅等。坩堝材料：電弧石英坩堝的原料選用美國(guó)優(yōu)質(zhì)石英粉，其二氧化硅含量在99.9985%以上。

坩堝結(jié)構(gòu)特點(diǎn)：

  電弧石英坩堝采用獨(dú)特的真空熔制方法制造而成，在坩堝的內(nèi)表面形成厚度約為2～3mm的透明石英玻璃層，因此在進(jìn)行單晶硅的拉制過程中可有效抑制坩堝體內(nèi)氣泡的逸出，阻止單晶硅微缺陷的產(chǎn)生。用電弧法制的的半導(dǎo)體半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發(fā)展大規(guī)格集成電路必不可少的基礎(chǔ)材料。當(dāng)今世界半導(dǎo)體工業(yè)發(fā)達(dá)國(guó)家已用這種坩堝取代了小的透明石英坩堝。它具有高純度、尺寸大、精度高、耐溫性強(qiáng)、保溫性好、節(jié)約能源、質(zhì)量穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。

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